前沿導讀
美國議員提出一項全新的法案來打擊中國芯片產業,該法案命名為“硬件技術控制多邊協調法案”(match法案),禁止荷蘭ASML、日本東京電子、美國應用材料、科磊等企業向中國芯片制造商提供或缺的制造設備。只要是那些中國企業高度依賴進口,并且本土企業無法制造出來的技術設備,美國企業及盟友企業均不允許向中國企業提供。
然后針對現有的光刻機禁令繼續升級,ASML制造的浸潤式光刻機不允許提供給中國大陸地區的企業,并且還要限制相關企業對中國已采購設備進行售后維護工作。
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參考資料:
美國為限制中國又盯上阿斯麥,荷蘭政府:不便評論別國法案
制裁升級
此前美國對光刻機設備下達的禁令是禁止EUV對華出口,而且是完全體的出口管制,就算是美國、韓國企業在中國大陸地區建設的芯片合資工廠,也不允許獲得EUV設備。
在禁止EUV出口的期間,老款的浸潤式DUV光刻機還可以繼續出口給中國企業。中國企業也因此向ASML下達了大量采購訂單,ASML中國區業務的營收占比開始增高。
隨后美國又下令,禁止NXT:2000i及以上浸潤式光刻機的對華出口,差一些的NXT:1980i還可以出口。
2023年,在華為發布了mate60系列產品之后,美國針對浸潤式DUV光刻機的禁令開始升級,禁止中國大陸地區本土晶圓廠獲得NXT:1970i及以上設備。
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雖然政府出臺了出口管制條例,但是在2023年年底之前,ASML得益于此前獲得的出口許可,可以繼續履行交付義務,只允許向中國大陸地區的成熟芯片工廠交付浸潤式光刻機,先進工廠則是被完全禁止。
在光刻機設備上,美國對中國企業嚴防死守。一邊持續收緊出口管制,壓制中國自主技術發展,一邊又適當調整出口管制條例,讓中國企業獲得部分老舊設備去制造傳統成熟芯片。
在對光刻機實施出口管制的同時,美國還拉攏日本企業一起實施出口管制。日本企業雖然在上世紀被美國實施制裁,壓制了本土制造技術的發展,但是日本企業在芯片設備、制造材料等領域具有顯著優勢。
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日本東京電子具有完整的刻蝕產品線,其看家技術就是低溫刻蝕設備。該設備是制造存儲芯片的重要設備之一,采用低溫技術來控制化學反應,保護光刻膠并實現高深寬比。
此次美國新提議的match法案,就將日本東京電子的低溫刻蝕機劃入對華出口管制的清單當中。除東京電子之外,美國應用材料以及泛林科技所推出的高端刻蝕機設備也已經被納入到對華制裁的清單當中。
定向打擊
match法案計劃將中芯國際、長江存儲、長鑫存儲、華虹集團、華為這5家中國本土企業列入重點受出口管制的企業名單,對這5家中國企業實施更加嚴格的全面出口管制。
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中芯國際與華虹集團是中國大陸地區規模最大的兩家晶圓廠,長江存儲和長鑫存儲是中國大陸地區最大的閃存和內存制造商,而華為則是中國老牌的通訊企業和消費電子企業,并且還橫跨了通訊技術、集成電路設計、ai算力這三大核心技術板塊。這5家企業相當于是中國晶圓制造、中國存儲器制造、中國消費電子技術的門面。
除以上5家中國企業之外,美國還將大量中國本土的設備制造商列入出口管制清單,包括了中微公司、北方華創、盛美半導體、上海微電子等具備自主技術的設備企業。
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在實施出口管制的同時,美國還要求日本、荷蘭等國家的企業在設備維護與技術支持上面進行限制。禁止為那些被列入實體清單的中國本土企業提供產品的售后服務與技術扶持,而那些沒有被列入實體清單的企業還可以繼續建立合作。
從此次match法案的規劃來看,美國重點關注的項目就是光刻機以及刻蝕機這兩大產品,并且將中國大陸地區5家規模較大、發展勢頭強勁、業務板塊清晰的中國企業列入全面制裁清單,其意圖很明顯,那就是拖慢中國企業從成熟工藝向先進工藝前進的速度,同時還遏制中國本土企業在存儲芯片上面的產能擴張。
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不過此次法案影響最大的政策還是禁止外部企業為中國已購設備提供售后服務,這波及的范圍很廣泛,甚至可以覆蓋到中國企業在幾十年前采購的老舊設備。
芯片制造設備本質上就是消費級工業設備,也是需要定期進行技術維護,更換內部耗材。如果技術維護與耗材服務全部暫停,那么必然會影響設備的制造效率。
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單純的新設備禁運不可怕,國內企業還能依靠后續的自主設備頂上來,但是禁止海外企業對中國已購設備進行售后服務,這對于花費資金采購設備的中國企業來說非常不公平,這是一種不講商業誠信的行為。
在上個月剛剛結束的上海半導體展會當中,半年賣9臺光刻機的日本尼康在展會中還高調表示要深耕中國市場,為中國企業提供二手的DUV光刻機、提供技術服務、提供翻新服務、提供安裝移機等特殊扶持政策,依靠中國市場重返業務巔峰。
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北方華創、中微公司、上海微電子、盛美半導體這些被美國制裁的中國設備企業,均在展會當中展示出了自家強有力的產品陣營,并且這些國產設備都具備自主可控性。
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盡管部分設備要比美日企業的產品落后一些,但是國產制造設備正在成為中國芯片產業的一道護城河,未來的導向也一定是以采用國產設備為核心,避免被外國企業卡脖子。
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