半導體高難度廢水處理解決方案｜穩定達標，專業守護綠色生產

半導體生產過程中產生的廢水，具有成分復雜、腐蝕性強、水質波動大、污染物濃度高等特點，一直是工業廢水治理領域的重點與難點。

作為專注工業廢水治理的環保企業，恒大興業憑借成熟技術與豐富經驗，為某大型半導體企業量身定制廢水處理方案，以分質精準治理工藝，實現3000m3/d廢水穩定達標處理，為企業環保合規與可持續發展保駕護航。

廢水特征與治理需求

項目廢水主要分為研磨廢水、含氟廢水、有機廢水、酸堿廢水四大類，各類廢水水質差異顯著、治理難度突出：

研磨廢水：懸浮物濃度高，SS最高可達1000mg/L，易堵塞管道與設備；

含氟廢水：氟化物濃度高達800mg/L，酸性強，深度除氟要求嚴苛；

有機廢水：COD最高1500mg/L，氨氮、總氮含量高，需高效生化降解；

酸堿廢水：pH波動范圍1.0~13.0，水質沖擊負荷大，中和處理難度高。

處理后出水需滿足園區污水處理廠納管排放要求，確保長期穩定合規。

核心處理工藝與技術優勢

結合廢水特性，采用分質收集預處理 + 綜合深度處理 + 污泥廢氣協同治理 + 全流程智能監控的完整工藝路線，確保治理效果：

研磨廢水：采用一體化反應沉淀工藝，快速去除高濃度懸浮物，保障出水SS達標；

含氟廢水：通過精準pH調節、鈣鹽深度沉淀，配合氟離子在線控制，高效去除氟化物；

有機廢水：一體化反應搭配好氧生化處理，高效降解COD、氨氮、總氮，提升處理效率；

酸堿廢水：中和調節與均質混合結合，平衡水質酸堿度，降低后續處理負荷；

配套保障：配套污泥高壓隔膜壓濾脫水系統、廢氣收集處理系統，同時配置 pH、氟離子、流量、液位等在線監測儀表，實現24小時智能管控，異常情況快速響應。

整套系統選用防腐、耐酸堿的優質設備，適配半導體廢水腐蝕特性，運行穩定、故障率低、運維成本可控。

系統投用后，出水水質持續穩定滿足納管標準，COD≤300mg/L、總氮≤45mg/L，氟化物、氨氮、SS等關鍵指標均達標排放。

既滿足企業生產發展需求，又嚴守環保底線，大幅降低企業環保風險，提升企業綠色品牌形象。