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4月8日,華海清科公告稱,公司第1000臺化學機械拋光(CMP)裝備出機,發往國內集成電路制造龍頭企業。
從“零的突破”到累計出機突破千臺,華海清科用扎實的技術積累與持續的市場開拓,書寫了國產高端半導體裝備從追趕到并跑的跨越式發展。這既是華海清科奮斗征程的里程碑,更是其邁向更高目標的新起點
目前,華海清科公司CMP裝備已批量進入國內先進制程大生產線,部分核心技術指標超越國際先進水平。CMP作為實現納米級表面平整度控制的核心工藝,在先進邏輯、先進存儲及先進封裝等領域的應用場景與工藝需求不斷拓展。華海清科公司依托在CMP領域積累的深厚技術與產業經驗開展前瞻性布局,已形成覆蓋關鍵工藝環節的成套解決方案,在產業升級與市場需求擴張的雙重驅動下迎來新的發展機遇。
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