陜西
過去幾年，圍繞中國半導體產業，外界有兩種截然不同的聲音。
一種認為：中國已經突破7nm，國產EUV光刻機很快就會出現，ASML壟斷即將結束。另一種則認為：中國距離真正意義上的EUV產業化，仍然存在巨大的技術鴻溝。
最近，荷蘭半導體記者、長期研究ASML的專家馬克·海金克（Marc Hijink）在接受采訪時表示：“大約10年之后，中國可能會出現達到ASML當前水平的競爭者。”
這句話，其實信息量極大。它既承認了中國半導體產業的進步，也間接說明：即便未來中國造出EUV，也未必意味著已經追上ASML。因為ASML不會原地等待。
今天中國即便成功做出“低NA EUV”，ASML可能早已全面進入“High-NA EUV”時代。
一、EUV光刻機，到底難在哪里？
很多人以為，EUV光刻機只是一臺機器。實際上，全球最頂級的制造能力，幾乎都濃縮在里面。一臺EUV光刻機，包含超過10萬個零部件，涉及光學、材料、真空、激光、精密機械、軟件算法、流體控制等多個領域。其核心難點，并不是造出來，而是：能否穩定運行、能否批量量產、能否保證良率、能否長期維護、能否形成產業生態。
ASML能夠壟斷EUV，并不是因為荷蘭一家企業特別強，而是因為它背后站著整個歐洲工業體系。比如：德國蔡司（Zeiss）提供超精密反射鏡、德國TRUMPF提供激光系統、美國Cymer提供光源技術、日本提供大量關鍵材料、全球頂級芯片廠共同參與驗證。
ASML賣的不是設備，而是全球工業體系的集體結晶。這也是為什么很多業內人士認為：EUV可能是人類工業史上最復雜的民用設備之一。
二、中國為什么被卡在EUV門外？
2018年，中芯國際曾向ASML采購EUV設備。但最終，在美國政府施壓下，荷蘭方面沒有批準出口許可。從那之后，中國正式被擋在EUV之外。
美國為什么如此緊張？因為EUV決定的是先進制程。沒有EUV，先進芯片制造成本會急劇上升。目前全球7nm以下芯片，幾乎都高度依賴EUV。而美國真正擔心的，并不是中國現在能不能做先進芯片。而是擔心：中國一旦掌握完整先進制造鏈條，未來全球芯片產業格局會被徹底改寫。
因此，美國針對中國半導體的限制，已經從“單一設備限制”，升級成了：光刻機限制、EDA軟件限制、AI芯片限制、人才限制、材料限制、先進封裝限制。本質上，就是希望把中國鎖死在先進制造體系之外。
三、中國為什么還能做出7nm？
很多人一直有個疑問：既然沒有EUV，中國為什么還能量產7nm？答案其實很簡單：DUV + 多重曝光。
ASML雖然禁止向中國出售EUV，但此前中國企業已經采購了大量浸潤式DUV設備。而DUV并非完全不能制造先進芯片。只是代價極高。業內普遍認為：采用DUV多重曝光制造7nm，其工藝復雜度、成本、良率壓力，都遠高于EUV。
簡單來說：EUV像“一次成型”。DUV多重曝光更像“重復雕刻”。步驟越多，誤差越大。這也是為什么業內普遍認為：中國7nm突破，真正厲害的地方，并不只是光刻。而是整個后端工藝體系。包括：刻蝕、沉積、清洗、檢測、CMP、封裝。這些環節，中國設備企業過去幾年進步極快。
比如：北方華創、中微公司、盛美上海。這些企業在刻蝕機、薄膜沉積、清洗設備等領域，已經開始進入全球主流供應鏈。
從某種意義上說：美國對EUV的封鎖，反而倒逼中國加速補齊整個設備產業鏈。馬克·海金克也明確表示：美國的限制政策，實際上刺激了中國建立自己的半導體工具體系。
往期10w+精選：
中國芯，我的心，點個關注支持一下唄！
關注我獲得
聲明：本文素材引自網絡媒體，如有錯誤，請以最新資料為準。本文絕不構成任何投資建議、引導或承諾，請審慎閱讀。
喜歡就 關注 哦
動動小手點個 贊
點 在看 最好看
特別聲明：以上內容(如有圖片或視頻亦包括在內)為自媒體平臺“網易號”用戶上傳并發布，本平臺僅提供信息存儲服務。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
