湖南
你可能聽說了，咱們國內(nèi)現(xiàn)在能造出等效7nm的芯片了。聽著挺厲害對吧？但別急著高興，這里面有個大問題——產(chǎn)能不大，而且用的設(shè)備，還有一些是進(jìn)口的。
從實際來看，這種7nm芯片，是靠浸潤式DUV光刻機(jī)，一遍又一遍地“多重曝光”才折騰出來的。而最關(guān)鍵的浸潤式DUV光刻機(jī)，是從荷蘭ASML公司買的。
但問題來了：ASML現(xiàn)在連先進(jìn)的浸潤式DUV都不賣給我們了。能賣給我們的，是比西方落后了至少十年以上的老機(jī)型。
那咱們自己造不行嗎？14億人，難道真搞不出一臺光刻機(jī)？
說實話，真造不出來。別說是頂級EUV光刻機(jī)，就是浸潤式DUV，咱們目前也還沒搞定。現(xiàn)在國內(nèi)能做出來的，還停留在干式DUV的水平。這中間的差距，不是一星半點。
那難點到底在哪兒？
光刻機(jī)這東西，說起來核心就三大塊：光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、工作臺。聽起來不多，可每一塊都是天花板級別的難度。
先說話光源。DUV用的是193nm波長的光源，這塊咱們還行，不管干式還是浸潤式，起碼光源能搞定。
但到了EUV級別，光源技術(shù)就完全不一樣了——波長直接縮到13.5nm。怎么來的？用雙脈沖二氧化碳激光，每秒鐘打5萬顆20微米大小的錫液滴，瞬間產(chǎn)生50萬度的等離子體，錫離子一跳遷，才能發(fā)出13.5nm的光。
然后還要用多層透鏡篩選、收集。這種技術(shù)，全球也就ASML、蔡司、Cymer幾家聯(lián)手才能搞出來，堪稱人類工業(yè)的極限。目前國內(nèi)，真做不了。
再說物鏡系統(tǒng)。這個更讓人頭疼。從浸潤式DUV光刻機(jī)開始，全球只有一家廠商能造出這樣的物鏡——德國蔡司。沒錯，就這一家。連光學(xué)技術(shù)那么牛的日本都不行，咱們目前也沒有這樣的企業(yè)。連浸潤式的物鏡都造不出來，更別提EUV的了。
相比之下，工作臺反倒沒那么絕望。工作臺講究的是對準(zhǔn)、精度、控制，屬于機(jī)械、自動化、精密儀器的范疇。這塊咱們底子還可以，已經(jīng)有成型、穩(wěn)定可用的產(chǎn)品了。雖然跟EUV級別比還有差距，但差的也不算太遠(yuǎn)了。
所以你看，真正的瓶頸就兩個：光源和物鏡。這兩樣不突破，浸潤式DUV和EUV光刻機(jī)，咱們就始終造不出來。
這也是為什么美國只要卡住光刻機(jī)，就能卡住我們整個芯片產(chǎn)業(yè)。不是咱們不努力，是這玩意真的太硬核了。只有哪天咱們自己的光刻機(jī)真正突破了，脖子才算真正不被卡住。
特別聲明：以上內(nèi)容(如有圖片或視頻亦包括在內(nèi))為自媒體平臺“網(wǎng)易號”用戶上傳并發(fā)布，本平臺僅提供信息存儲服務(wù)。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
