四川
82 歲的中微半導體董事長尹志堯，近期在央視 《對話》節目中，表達了一個觀點，希望國內客戶能給設備公司更多機會。
其實這是希望國內企業能夠給國產設備更多的驗證機會。
尹志堯在節目中表示，國內客戶主觀上認可國產設備的進步，但是在實際的采購過程中，仍然受到成熟設備零風險的思維影響，忽視半導體設備初期驗證環節的重要性。
實際上，國外的設備在賣到中國時，已經在三星和臺積電的產線上經過兩三年的驗證，期間也經過各種調試和技術改進，賣到中國時，已經是非常成熟的設備。
2026 年國內半導體設備市場的國產化率約為 28%-35%，在高端的芯片制程領域的國產化率不足 20%，72% 依賴進口。中芯國際已累計采購中微的刻蝕機超過 800臺，這類深度合作在國內企業中仍屬于少數。
盡管國產設備在關鍵技術上面獲得了突破， 中微 5nm 介質刻蝕機獲得臺積電量產驗證，并獲得臺積電南京廠的訂單。深寬比 90:1 刻蝕技術達到國際領先，良品率與應用材料的刻蝕機基本持平，部分批次的產品還會高出 0.2 個百分點。
但真正的短板是缺乏規模化產線驗證的機會。這讓國產設備企業面臨無應用、難以發現問題、無法進行技術迭代升級，導致市場信任不足，更沒有機會獲得應用的惡性循環。
中芯國際創始人張汝京談到與中微的合作時，強調為了測試一款新設備，采用小批量的階梯式測試，先試 5 片、25 片、然后再測試 50 片、100 片。成本由雙方共同承擔，中微提供免費的測試的設備，中芯國際承擔晶圓和時間成本。這種模式成功了，對于雙方來講，這種投資非常值得，可以帶來長久的合作。
實驗室數據無法替代產線驗證，是半導體設備的特性決定的。中微首創的甚高頻去耦合反應離子刻蝕技術，經過產線驗證后，成為全球 CCP 刻蝕機的通用標準，國際三大設備巨頭也跟進采用。
設備的穩定性是用出來的，不是只看參數。中微刻蝕機，可以做到從從初期適配到穩定量產，正是依靠中芯國際持續提供設備運行時的各種反饋信息，不斷進行技術改進，才實現技術成熟。
國產設備企業可以根據晶圓廠的需求改進設備。中微雙臺機（單臺機同時刻蝕兩片硅片）就是根據國內晶圓廠控制成本的需求而改進的。
中微能進入臺積電 3nm/5nm 芯片的產線，得益于在國內產線上進行大量的設備驗證。
國產設備與國際同類型的產品相比，價格低 15%-30%，而且后期維護和參數優化響應的速度更快，這是優勢。
隨著，中微 MOCVD 設備在國內市場應用規模擴大，可進一步降低設備成本，有助于國內晶圓廠降低成本。
如果中芯國際 28nm 及以上制程產線的設備國產化率超過 60%，供應鏈的穩定將會進一步增強，有助于降低國際供應鏈波動帶來的影響。
張汝京提出的 "風險共擔"的機制非常值得推廣，設備廠商免費提供測試設備，晶圓廠承擔測試成本，雙方共同解決遇到的技術問題。
當前，國內已有企業采用這種模式。中芯國際、長江存儲已在非核心產線開展國產設備的驗證工作。北方華創的多款設備在中芯國際工廠的很多應用案例也可以復制。
國內的行業機構和研究機構，可建立國產設備應用案例庫，匯聚并脫敏共享國產半導體設備產線的驗證經驗，這樣可降低重復試錯的風險和成本。
尹志堯的觀點很明確，國產半導體設備除了要自己攻克技術難關外，還需要國內晶圓廠給更多的機會參與生產驗證，這樣國產半導體設備才能夠獲得發展，晶圓廠的設備供應才能夠有保障。
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