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今天真的是很特別的一天。
2026 年 5 月 25 日將是中國芯片史上一個非常重要的日子。
華為正式發布了韜(τ)定律。
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簡單說:以后芯片性能不靠 “越做越小”,而是靠 “跑得更快”。
這是中國第一次在全球半導體領域,提出能指導整個行業的新定律。
摩爾定律即將失效的當下,老狐沒想到是華為提出了新的解決方案。
我們先聊聊摩爾定律。
在芯片界,過去的半個世紀都是跟著摩爾定律走。
主要內容是:集成電路上可容納的晶體管數目,約每隔 18 到 24 個月便會增加一倍;換句話說,芯片的性能也會提升一倍,而價格會下降一半。
芯片制程從微米一路殺到納米,也就是我們現在耳熟能詳的 14nm、7nm,再到 5nm、3nm。
這背后的物理邏輯其實很簡單:就像在同一塊地皮上建廠房,誰能把晶體管的體積縮得越小,誰就能在有限的空間里塞進更多的晶體管。就達到性能更好,功耗變低的效果。
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這就是為什么每次手機發布會,芯片永遠是雷打不動的 C 位。
但現在,這條路就快要走到頭了。
一方面,物理極限在堵死退路。當制程逼近 1 到 2 nm,它已經接近了原子的大小。
晶體管小到一定程度,電子開始不聽話地到處漏電,再做小反而適得其反。性能提升非常有限。
另一方面,現在的芯片研發,起步就是 10 億美元,流片一次就要燒掉幾個億,真不是隨便燒的起的。
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既然在工藝上已經卷無可卷了,與其繼續死磕物理極限,不如另尋出路。
而華為就提出了一條全新的破局之路——“時間微 縮 ”。
這就是韜定律。
它的核心邏輯其實很簡單:既然我無法把晶體管做得更小,那我就想辦法讓信號跑得更快,用“壓縮信號延遲”,來代替“縮小晶體管尺寸”。
過去傳統的芯片,晶體管像平房一樣平鋪在晶圓上。因為拉得太開,信號傳輸就要走遠路。而“韜定律”直接把平房改成了“寫字樓”,讓晶體管合理地進行 3D 堆疊。
通俗講,以前的芯片所有零件都平鋪在一張 2D 地圖上。
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零件和零件之間隔得太遠,信號傳個話,得在紙上跑長途。
芯片大部分處理任務的時間,都浪費在信號傳輸上了。
而華為現在的做法是讓芯片內部的 2D 層面直接變成 3D。
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把兩層、甚至三層芯片像蓋樓一樣疊起來。 本來要跑 100 米遠才能傳到的信號,現在往上一抬頭,上個電梯只要跑 1 米就到了。
這就是韜定律最核心的一招,叫邏輯折疊。
并且,大家別忘了,華為有 30 多年通信技術。
在邏輯折疊的同時,華為還優化了互連電阻、寄生電容,重構計算系統互聯協議,實現從平面布局物理邊界突破到整體算力效率的提升。
說人話就是:讓芯片里的信號傳輸開上高速了。
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同時“韜定律”也并非單一的技術點,而是一套貫穿器件、電路、芯片到系統的多層級協同優化體系。
即使不用 3nm、2nm 的工藝,卻依舊能達到頂尖制程的密度和性能。
芯片在不依賴最尖端光刻設備(如EUV)的情況下,依然能獲得頂級制程的性能體驗。
華為不僅提出了理論,還公布了時間線。
在過去 6 年的默默深耕中,華為基于“韜定律”的探索,已經悄然成功設計并量產了 381 款芯片。
而在今年秋天,下一代華為 Mate 手機要用的“麒麟 2026” 芯片,就會完整采用邏輯折疊技術。
而這會不會就是下一代的 Mate 90 系列呢?很值得期待一下。
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海思何庭波表示,這是該技術的首次成功實施,未來十年將走向全面折疊甚至多層折疊。
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另一個是遠期明確目標,5 年后,2031 年達到等同 1.4 nm 水平。
這是什么概念?
我們可以拉出全球半導體巨頭的進度條,做個最直觀的橫向對比。
全球最尖端的 3 nm 工藝是在 2022 年底實現量產的,至今已經過去了近 4 年。
而臺積電萬眾矚目的 2 nnm 工藝,預計今年秋天才會正式量產,并搭載在蘋果的 iPhone 18 Pro 系列上。
按照這個技術迭代的速度推算:5 年后的 2031 年,全球半導體的頂級水平估計也就是 1.4 nm,并且可能才剛剛步入量產階段。
這意味著五年后,華為很有可能追平世界領先水平。
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最后,大家知道為什么要叫做韜定律嗎?
因為韜定律的取名源自希臘字母 τ,代表時間,時延。
更寓意著中國芯片“韜光養晦、深藏實力”的戰略定力
這是獨屬于我們自己的芯片發展法則。
大家怎么看呢,我們評論區聊聊~
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