江蘇
技術賦能 持續突破
繼首臺自研HV-SEM高能電子束裝備出機國內頭部晶圓廠后，近日東方晶源微電子科技（北京）股份有限公司（以下簡稱“東方晶源”或“公司”）HV-SEM再度成功出機，順利進駐國內先進制程產線。此次落地應用，標志著公司高能電子束量檢測裝備產業化進程全面提速，加速填補國內先進制程高端量檢測設備領域技術空白，以硬核自研技術賦能我國集成電路先進制程迭代升級。
作為針對先進制程打造的高端電子束量檢測裝備，HV-SEM屬于技術集大成者，技術壁壘極高、研發難度極大。該設備既要具備CD-SEM高精度量測核心能力，實現高能電子束工況下的精準量測，還要具備類似DR-SEM的BSE/SE多通道成像技術，同時還要集成EBI大數據算力系統，實現海量數據的多元化智能算法分析。
在此基礎上，東方晶源自主攻克高能電子束控制與校準體系，獨家研發適配先進制程的SEM overlay量測專用算法與應用方案。針對先進制程在線寬尺寸方面持續微縮的趨勢，公司進一步迭代優化工件臺納米級運動控制等核心模組，全面拉高設備精度、穩定性與適配性，精準匹配先進制程嚴苛的工藝標準。
在3D-NAND、DRAM、先進邏輯、先進封裝等領域，HV-SEM憑借高能電子束獨特的深層成像優勢，在in-die SEM overlay、超高深寬比（HAR）3D結構量測、深層缺陷檢測等應用領域具備不可替代的關鍵作用，是先進集成電路工藝研發與量產不可或缺的核心設備，具有重要的戰略價值。
目前，東方晶源已構建起涵蓋EBI、DR-SEM、CD-SEM、HV-SEM完整的電子束量檢測產品矩陣，全面覆蓋缺陷檢測、工藝復檢、關鍵尺寸量測、三維結構overlay等全場景量檢測需求，形成了系統化、一體化的國產電子束量測設備解決方案。
在HV-SEM研發與迭代上，東方晶源始終堅持自主創新。依托已有的45keV高能電子光學技術，公司堅持雙線并行發展：一方面推動當前產品型號進產線解決客戶需求，另一方面持續加大新型號的攻關力度和研發投入，持續迭代高能電子光學系統、高性能BSE探測器、多通道成像技術、工件臺納米級運動控制技術、大算力DPU架構、專用自動化校準體系、先進智能量測和檢測算法、設計版圖GDS整合等核心技術。系列自研技術的持續突破，打破海外廠商在高能電子束量檢測裝備領域的長期技術壟斷，成功打造出性能對標國際一流水平的國產高能電子束量檢測裝備。未來，東方晶源將加速落地HV-SEM硬件裝備與自主EDA軟件技術的深度協同，進一步深化從設計到制造的HPO全流程工藝優化體系。
以技術創新破解先進制程“卡脖子”難題，以自主突破筑牢產業安全根基，東方晶源將持續深耕半導體良率管理賽道，全力推動我國集成電路產業自主可控、高質量發展。
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