北京
美荷兩國曾同時發(fā)聲，對中國獨立研發(fā)的光刻機技術給予了強烈批評，近期美荷兩國接連發(fā)聲，對中國獨立研發(fā)的光刻機技術提出強烈批評，這番密集表態(tài)迅速在全球半導體行業(yè)引發(fā)關注。要知道，荷蘭 ASML 公司長期占據全球高端光刻機市場超 80% 的份額，美國則在半導體設備核心技術領域掌握關鍵話語權，兩國此時共同針對中國光刻機技術發(fā)聲，背后牽扯著全球半導體產業(yè)鏈的復雜博弈。
荷蘭這邊，作為全球高端光刻設備的“老大哥”，在美國技術封鎖下也曾公開表態(tài)稱對華出口受限。但有媒體報道，ASML內部甚至有人認為對華限制過緊，可能會反過來刺激中國走上自主研發(fā)的道路。
與此同時，有關中國自主光刻機研發(fā)的新聞也頻頻見諸公開資料。在2019年以來的技術封鎖背景下，中方堅持“自力更生、創(chuàng)新驅動”的戰(zhàn)略不動搖，這一精神也在當前光刻機攻關上體現得淋漓盡致。根據公開資料，中國半導體產業(yè)在DUV光刻機的國產化方向取得一定進展，國內科研力量和企業(yè)持續(xù)集中資源開展研發(fā)和產業(yè)化攻關。
其實，美國從2018年起就開始施壓荷蘭政府加強對高端光刻機出口的控制，禁止將最先進的EUV設備賣給中國。 這種“組合拳”一方面聯動盟國，一方面試圖阻斷中國進入最先進芯片制造的路徑；但國務院、商務部等多次明確指出，中方對這種技術封鎖持堅決反對態(tài)度，強調通過自主創(chuàng)新實現科技安全。
拿市場份額說話并不夸張：在全球光刻機市場上，ASML的設備無可取代，尤其是在高端EUV領域幾乎形成壟斷。 但隨著中國國產DUV設備在某些領域實現突破性進展（包括系統穩(wěn)定性、產線適配性等方面的提升努力），全球產業(yè)鏈的“舊格局”確實受到挑戰(zhàn)。這不僅令ASML注意到，也令全球行業(yè)參與者開始重新評估供應鏈多元化的重要性。
除了出口控制這一表態(tài)層面，最新動態(tài)還包括美國立法層面對信任、出口許可等方面的進一步法律設計，一些法案試圖在出口管制之外，把相關設備銷售納入更全面的國家戰(zhàn)略安全框架。 這樣的連續(xù)表態(tài)和動作，反映出美荷兩方對中國技術提升的關注，同時也實實在在影響著產業(yè)鏈格局。
如果把這個事件放在更大的背景理解，就不難看出所謂的強烈批評背后，是全球科技競爭加劇的現實。美國等國長期利用技術優(yōu)勢構建出口管控體系，中國則堅持開放合作、互利共贏原則，希望通過自身研發(fā)實力逐步突破技術“卡脖子”，并提升產業(yè)鏈自主可控能力。這種追趕與被封鎖的動態(tài)，已不是某一兩年的事情，而是過去幾年持續(xù)發(fā)展的結構性趨勢。
可以說，中國半導體產業(yè)在光刻機等核心設備領域的努力，是長期戰(zhàn)略與實踐的結合。中國相關科研機構、集成電路企業(yè)一直在推進基礎研究、產學研融合及產業(yè)化落地，力圖打破國外長期壟斷，提高自主芯片制造能力。在這個過程中，國內企業(yè)與科研力量對于知識產權的重視和國際合作規(guī)范也在逐步提升。
至于國際社會怎樣看待這一切，其實答案很直白：技術創(chuàng)新本身沒有國界，但某些國家把先進技術當成“戰(zhàn)略武器”使用，也就注定了這種技術競爭會帶有明顯的博弈色彩。將中國視為“對手”并批評中國自主技術研發(fā)，本質上是一種產業(yè)競爭策略，而非技術評估本身。
從中國角度看，不論外界如何議論，堅持自主創(chuàng)新才是可持續(xù)發(fā)展之道。縱觀全球科技史，一個國家的技術進步總是在壓力與挑戰(zhàn)中成長起來的。面對復雜的國際半導體產業(yè)形勢，中國既要維護合理的國際合作空間，也必須鞏固自身的技術根基和產業(yè)能力。
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