湖南
很多人一聊起芯片，第一反應(yīng)就是看數(shù)字。
臺積電今年要量產(chǎn)2nm了，Intel搞出了1.8nm，三星也拿下了2nm。回頭再看看咱們自己，目前最先進(jìn)的還是7nm，而且是用浸潤式DUV光刻機(jī)、靠多重曝光技術(shù)硬啃下來的。這么一算，中間還隔著5nm、3nm，足足落后兩代，要是再把6nm、4nm這些加強(qiáng)版算上，差距就更大了。
聽起來是不是挺讓人著急的？
但你要是真盯著這個(gè)“XX納米”來評判誰強(qiáng)誰弱，可能就有點(diǎn)被數(shù)字忽悠了。其實(shí)業(yè)內(nèi)早就有不少專家說過，不同廠家之間的納米數(shù)字，不能直接劃等號，因?yàn)檫@里面“注水”的情況不少。
最近就有人拿三星舉了個(gè)例子，挺有意思的。三星可是有EUV光刻機(jī)的，人家正兒八經(jīng)造出了4nm芯片。可你要是把三星的4nm和咱們用DUV光刻機(jī)搞出來的7nm放到一起比一比，結(jié)果可能會(huì)讓你有點(diǎn)意外——兩者在晶體管密度上其實(shí)差不太多，實(shí)際性能表現(xiàn)也基本在一個(gè)水平線上。
更尷尬的是什么呢？三星那個(gè)4nm，良率低得嚇人，發(fā)熱還特別厲害，功耗控制得一塌糊涂。當(dāng)年高通都被它坑得不輕，最后實(shí)在扛不住了，趕緊把訂單轉(zhuǎn)給了臺積電。反觀咱們的7nm，良率穩(wěn)穩(wěn)當(dāng)當(dāng)，功耗控制得也不錯(cuò)。你看看華為后來出的那些麒麟芯片，用在旗艦手機(jī)上，操作流暢得很，性能夠用，發(fā)熱也不大，用戶口碑一直挺好。
所以說，別看數(shù)字上差了兩三代，實(shí)際用起來還真不一定誰輸誰贏。
當(dāng)然，有人可能會(huì)問，既然DUV光刻機(jī)能搞出7nm，那接著往下做5nm、4nm行不行？理論上確實(shí)可以，繼續(xù)往上疊多重曝光次數(shù)就行。但問題是，現(xiàn)實(shí)中這么干難度很大。
每多一次曝光，生產(chǎn)效率就往下掉一截，成本蹭蹭往上漲，關(guān)鍵是良率也會(huì)跟著往下滑。小批量造幾顆樣品可能沒問題，但要大規(guī)模商業(yè)化量產(chǎn)，那個(gè)成本和良率誰都扛不住。
從這些事里頭其實(shí)能看明白一個(gè)道理：在芯片這個(gè)行當(dāng)，技術(shù)和人才才是真正的命根子。
三星這幾年為啥越混越拉胯？很多人心里都有數(shù)，就是因?yàn)樾酒绲摹按笊瘛绷好纤呻x開了三星，后來加入了中芯國際。
他前腳走，三星的技術(shù)后腳就開始掉鏈子；他到了中芯國際之后，咱們這邊的技術(shù)肉眼可見地在往上走。哪怕是用DUV光刻機(jī)做7nm，做出來的東西也不輸給三星用EUV做的4nm。
所以，與其光盯著那個(gè)納米數(shù)字發(fā)愁，不如想想另外一個(gè)問題——一旦咱們自己的EUV光刻機(jī)突破了，中國芯片技術(shù)能一下子沖到什么程度？這個(gè)想象空間，可就大多了。
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