江西
最近俄羅斯在光刻機領域確實動靜不小！一方面，他們自主研發的350納米光刻機已經正式入列并準備量產，主要用來保障工業和軍事芯片的供應，這在一定程度上打破了西方的設備封鎖。
?另一方面，更讓人關注的是他們提出的一個“換道超車”新思路——“氣體靶”技術。簡單來說，就是不用傳統的錫滴，而是用氙氣、鋰氣來產生光源。根據目前公布的技術路線圖，這套方案理論上能避開現有的專利壁壘，未來甚至有望挑戰3納米乃至1納米的制程。
?當然，從實驗室理論到真正的工廠量產，中間還有很長的路要走。但這波操作確實給全球半導體格局提供了一個新的觀察視角。大家覺得這種“另辟蹊徑”的打法，最終能成功突圍嗎？
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