河北
前沿導讀
據《觀察者網》新聞指出，荷蘭ASML公司CEO克里斯托弗·富凱在接受路透社采訪時指出，ASML目前向中國銷售的DUV光刻機，是基于ASML在2015年開發的技術平臺，已經落后了11年。進一步收緊對華制裁，只會繼續加速中國研發自主設備的步伐。
存亡時期
富凱在訪談中，還用到了一個更加具象化的比喻來形容如今的中國半導體產業。富凱表示，如果我把你放在沙漠里，并且告訴你以后再也沒有食物來源了，你只有一些老舊的材料工具，那么你需要多久才能自己開墾出一塊菜園？這是一個存亡問題。
根據ASML投資者交流文件顯示，2013年ASML首次出貨了NXT：1970i，2016年首次出貨了NXT：1980i。這兩款浸潤式光刻機的區別就是在對準精度和制造效率上面進行了升級，對準精度越高，制造效率越高，支持的制程工藝也就越先進。
并且這些較為成熟的浸潤式光刻機，是大規模制造成熟芯片的核心設備，不但可以制造28nm及以上工藝的平面晶體管芯片，還可以通過多重曝光的方法制造14nm及以下具有Fin FET立體晶體管結構的芯片。
在美國的壓力下，荷蘭政府已經先后撤銷了ASML NXT：2000i及以上浸潤式光刻機的對華出口，并且還針對中國大陸地區先進制程的晶圓廠封鎖了NXT：1970i及以上設備。
而美國4月份推進的match法案，則是在之前的基礎上進一步實施封鎖，對中芯國際、華虹、長江存儲、長鑫存儲、華為這5家中國企業實施完全體的制裁封鎖，禁止ASML將所有型號的浸潤式光刻機出口給這些中國企業。
最開始荷蘭對于美國的match法案表示拒絕評論，但是前段時間荷蘭政府公開宣布對美國的match法案表示抗議，認為該法案存在嚴重不合理性，這是在影響ASML的正常運營和全球半導體產業的穩定性。
2025年，中國大陸市場為ASML貢獻了33%的總營收。受出口管制的影響，ASML預計2026年中國大陸市場的營收占比將會下滑到20%。
為保持經濟增長趨勢，ASML選擇與印度的塔塔電子合作，為印度正在建設的12英寸晶圓廠提供DUV光刻機，用于制造28nm及以上工藝的成熟芯片。
而中國半導體產業的發展趨勢仍然沒有改變，以自主可控為大方向，推動國產技術的規模化應用。如今中國先進芯片的規模化制造依賴于此前從ASML采購的DUV光刻機，國產的浸潤式光刻機已經進入工藝測試階段，目前還不具備直接在生產線上替代ASML浸潤式的能力。
從干式技術到浸潤式技術的升級，這是在美國制裁的迫使下出現的技術跨越。截止到目前為止，從已公布的信息來看，全球只有四家企業擁有浸潤式光刻機的制造能力，荷蘭ASML、日本尼康和佳能、中國上微。
技術差距
雖然中國自主的浸潤式光刻機以及EUV光刻機并未實現規模化應用，但是有一點可以確定，中國在芯片產業的技術進步很快，并且正在大幅度縮短與國際水平的差距。
ASML前任CEO彼得·溫寧克，早在多年前的采訪中就表示過，美國越是制裁中國，中國就越有可能開發出與ASML匹敵的自主光刻機設備。
并且ASML現任CEO富凱，在接受荷蘭《電訊報》采訪時表示，西方國家認為必須要保持對中國技術的領先，拉開雙方的差距，所以便通過出口管制的方法，試圖切斷中國企業與國際供應鏈之間的合作關系，從而壓制中國自主技術的發展。
但是關鍵問題在于，這個技術差距到底需要被拉開多大距離。技術差距可以有，但是不能無限擴大，否則中國企業將會研發自己的制造設備，擺脫困境。
隨后富凱在接受彭博社專訪時又指出，應該適度向中國企業輸出技術設備，以防止其自主研發形成競爭力。中國企業不會接受在技術上面被卡脖子的處境，必然會謀求技術進步，這是一個沒有爭議的事實。
現在來看，ASML前CEO多年前表達的擔憂是對的。買不到先進的進口設備，那么只能選擇自己開發。盡管研發自主設備是一個漫長且困難的過程，但是最終會達到目標。
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