湖南
目前，國內能夠實現的最先進的工藝，是等效7nm，且產能不大。
這種等效7nm芯片，是怎么制造出來的？其實是利用浸潤式DUV光刻機，進行多重曝光后，制造出來的，而這種浸潤式DUV光刻機，也是從ASML進口的。
大家不知道的，目前ASML對浸潤式DUV光刻機，也進行了封測，新款的浸潤式DUV不賣給我們，能賣給我們的，其實是落后了好幾代的，用ASML自己的話來說，給賣給西方的落后了10年以上水平。
那么問題就來了，既然ASML不賣，為何我們自己不制造出來，14億人口的泱泱大國，難道一臺光刻機還造不出來么？
不好意思，還真造不出來，不僅EUV造不出來，連浸潤式DUV光刻機，我們都造不出來，我們目前的水平也就是干式DUV的水平，還沒有實現到浸潤式DUV的水平。
那么難點在哪里？
光刻機說起來并不復雜，就只有三個核心組件。
一個是光源系統(tǒng)，一個是物鏡系統(tǒng)，一個是工作臺。
光源系統(tǒng)就是制造出什么樣的光源，DUV采用的是193nm波長的光源，這一塊其實我們已經有了這個水平了，不管是浸潤式還是干式DUV，都是193nm波長的光源。
但是EUV光刻機的光源不同，是13.5nm波長的光源，原理截然不同，是用雙脈沖 CO? 激光，去照射每秒5 萬顆、20 微米的錫液滴，形成50 萬度等離子體，而錫離子躍遷就會發(fā)出13.5nm的光。
然后再用多層透鏡篩選，收集這些光，就形成了EUV的光源。
這種技術，實在是太難了，全球也就是ASML、蔡司、Cymer等幾家聯合在一起，才能搞出來，堪稱人類工業(yè)極限水平，目前國內真制造不出來。
再看物鏡系統(tǒng)，目前從浸潤式DUV光刻機開始，全球就只有一家廠商，能夠制造出這樣的物鏡，那就是蔡司，除了蔡司之外，全球任何一個國家和地區(qū)的廠商，都制造不出來。
這種物鏡是人類光學技術的極限，連光學技術很發(fā)達的日本都不行，目前國內也沒有這樣的企業(yè)，所以連浸潤式DUV的物鏡系統(tǒng)，我們也制造不出來，更不要說EUV光刻機的物鏡系統(tǒng)了。
再看工作臺，這個其實沒有那么難，它是機械、自動化、精密儀器方面的能力。工作臺其實要求的是對準，精度，控制等，相對應的國內這項技術反而還不錯，有了成型、穩(wěn)定可用的產品了，也許比EUV的差一些，但差的也不多了。
所以關鍵，其實還是光源系統(tǒng)，以及物鏡系統(tǒng)，這兩塊如果不突破，我們就真的造不出浸潤式DUV光刻機，也造不出EUV光刻機。
這也是為何美國只要卡住我們光刻機，就卡住了我們芯片產業(yè)的原因，只有當我們光刻機突破了，那么才能真正不被卡脖子。
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