英特爾新一代 14A 半導體工藝已完成全部技術準備,正式進入量產待命狀態,預計 2026 年第四季度大規模投產。該工藝采用全新 GAA 環繞柵極技術,性能較 Intel 3 提升 25%,功耗降低 40%,密度提升 30%,綜合指標超越臺積電 3nm 工藝。
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瑞銀集團發布報告預測,英特爾 14A 工藝已吸引全球頭部科技企業洽談,潛在客戶包括英偉達、蘋果、AMD、谷歌等。英偉達正尋求多元化代工渠道,計劃將部分 GPU 訂單轉移至英特爾;蘋果也在評估 14A 工藝用于 Mac 系列芯片,降低對臺積電依賴。預計今年秋季,英特爾將簽署首批大規模代工協議。
為推進 14A 工藝量產,英特爾投資 120 億美元擴建亞利桑那州與新墨西哥州工廠,新增 6 條生產線,月產能達 12 萬片晶圓。公司同時推進代工開放戰略,為外部客戶提供 IP 授權、設計服務、封測一體化解決方案,打破 IDM 封閉模式。
業內分析,14A 工藝落地將重塑全球半導體代工格局。當前臺積電壟斷全球 7nm 以下先進制程,英特爾憑借 14A、20A、18A 工藝組合,有望在 2027 年搶占 20% 先進制程份額。中國半導體企業也在加速追趕,中芯國際 N+2 工藝已量產,2nm 技術研發取得突破,全球制程競爭進入白熱化階段。
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