文/王新喜

本想卡中國的脖子，結果斷了自己的財路，光刻機巨頭阿斯麥的CEO，現在可能心涼了半截，因為它最新一代2納米光刻機，被臺積電拒購了！

這下阿斯麥尷尬了，對大陸這邊，ASML按照美國拋出的MATCH法案，從過去禁最頂尖的EUV光刻機，到現在直接擴大到所有DUV浸沒式光刻機，把EUV到DUV全部封鎖了，但是阿斯麥卻發現，把最大的客戶拒之門外，現在EUV卻不好賣了。

大陸這邊，連老款的EUV極紫外光刻機都買不到，而臺積電呢？可以購買全球最先進的最新型2納米光刻機，卻選擇不買。

臺積電不要，阿斯麥2nm光刻機賣給誰？

4月22日，臺積電副共同營運長張曉強在一場論壇上公開表示，公司目前沒有采用阿斯麥最新高數值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV）的計劃，“我們仍然能夠從現有EUV設備中獲益。”張曉強還補充稱，下一代High-NA EUV設備“非常非常貴。

有多貴？一臺就賣4.5億美元，折合人民幣30億了。這個價格，常見 737波音飛機能買6架，殲-35購買4架。兩臺這玩意兒，都夠造出一艘055萬噸級大驅了！縱觀全球，能買得起的芯片代工廠，也沒幾個。

臺積電也不需要那么貴的EUV光刻機了。

事實上，這個價格，中國大陸買的起，但是阿斯麥不賣中國大陸啊。現在連DUV都不賣了，甚至售后維修都一并卡了，更不用說EUV了。

從做生意的角度來說，有客戶愿意出高價買，你不賣，剩下的客戶卻買不起你的光刻機了，這生意思維確實清奇，你的光刻機賣給誰？

我們知道，阿斯麥的客戶高度集中，前五大客戶貢獻了其約80%的收入。第一大客戶就是臺積電，臺積電占比高達近30%，是阿斯麥最大客戶，長期采購先進設備用于蘋果、英偉達等AI/手機大廠的芯片代工。

其次是三星 與SK海力士，韓國存儲與邏輯芯片巨頭，與SK海力士共同推動了韓國在2026年Q1成為阿斯麥最大收入來源地區（兩者占比45%）。再一個是英特爾 (Intel)：采購High-NA EUV用于其下一代的14A（1.4nm級）工藝生產。

此外，過去中芯國際 占比非常大，在DUV設備受限前曾是重要采購方，因美國出口管制，其在ASML營收中的占比已從高位大幅回落。

目前的情況是，占比30%的臺積電不買了，占比超30%的中國大陸市場被阿斯麥從EUV到DUV都禁了，對阿斯麥的EUV光刻機還有需求的主要客戶僅剩韓國兩大巨頭與美國的英特爾。現在韓國芯片巨頭主要是有AI這塊需求頂著，一旦這塊需求走向飽和，也不需要阿斯麥的EUV的光刻機了。

這樣一來，導致的結果是，議價權轉移了，現在能買EUV光刻機的客戶越來越少，供大于求。就那么幾個客戶，三星SK海力士與英特爾知道你手里的光刻機只能賣給這幾個，它們不急，那么急的就是ASML了，你光刻機在倉庫里面吃灰，干耗著，看誰急。

要知道，現在半導體市場，其實90%以上的需求，DUV光刻機都可以滿足，DUV構建了半導體的塔身和塔基。比如在汽車行業，一輛車里，真正需要“先進芯片”的只有“車機芯片和智駕芯片”，車上的控制器、MCU、傳感器、功率芯片等產品，均是成熟制程的芯片。

此外，工廠里的PLC和變頻器芯片，空調、冰箱、洗衣機里的主控IC等全部用成熟制程芯片，包括28nm、40nm、65nm、甚至180nm。

7nm以下只有10%不到的需求，而在這其中，5nm以下的芯片市場，需求更是稀少。

三星在3納米以下芯片代工中，根本沒有客戶，更別說2nm了。三星就算購入阿斯麥頂級光刻機，打造2納米生產線，也接不到訂單，屬于100%純虧損生意。

全世界，除了英偉達這種頂級芯片廠，需要2納米工藝，其他公司根本就不需要。而英偉達呢，把自己的訂單，幾乎全部交給了臺積電。

而臺積電此前已采購極少量的High-NA EUV，但僅用于研發而非量產。張曉強稱，臺積電正尋求在不使用High-NA EUV設備的情況下提升芯片效能的方法。

臺積電是啥意思呢？它接了英偉達的2nm訂單，但是卻是打算不使用High-NA EUV設備的情況下實現2nm工藝，即計劃通過關鍵制造技術改進，把現有的光刻機改造，使之能造2nm的芯片。

在4月22日，臺積電發布了兩項關鍵制造技術改進，為替代方案提供支撐。其中A13工藝計劃2029年量產，作為A14工藝的光學收縮版本，可在保持設計兼容的前提下縮減6%芯片面積，兼顧能效與性能提升；N2U工藝則作為2nm平臺的演進版本，預計2028年投產，速度較前代提升3%至4%，功耗降低8%至10%。

ASML現在把光刻機干到了2nm，本來需求就不多，臺積電作為最大客戶不要，其他幾家也會謹慎考慮，現在ASML把中國大陸這個最大的客戶給封堵了，阿斯麥原本計劃新設備于2027年和2028年大量生產，并將2030年的營收目標定在600億歐元。現在看起來是沒戲了。

做B端的生意，ASML高看了自己，或低估了封鎖帶來的反噬效應

按臺積電的說法，要等2028年時，這臺售價4.5億美元的光刻機才能真正對接上市場需求。英偉達的AI算力芯片到2028年時，將具備把十顆大型芯片與二十組內存芯片，堆疊拼接到一起。那時，阿斯麥的這項技術，才能在芯片的“小型化”與“高速化”上，發揮出真正的功效。

中國大陸這邊，上海微電子那臺28nm DUV光刻機，早不是展柜樣品，中芯和華虹的產線里天天跑，良率穩定在85%以上。沒吹牛，是產線自己打出來的數據。

這背后不是一臺機器的事。北京科益虹源做的曝光光源，華卓精科做的雙工件臺，長春光機所磨的鏡頭，寧波南大光電調的光刻膠——全在一條產線上跑通了。

當一條28nm產線靠自己養活了3000名工程師、支撐起5家材料廠迭代升級，當國產光刻膠的批次數據反過來幫設備廠優化曝光算法，這套系統就開始長出自己的代謝節奏了。

而且中科院今年3月整出了全固態DUV光源，這技術比傳統的氣體激光方案省電70%，體積小一半，理論上能支持3nm芯片制造。

現在的情況是：刻蝕機站上3nm，光刻機在28nm狂奔，封裝技術用14nm+3D堆疊或能實現了5nm性能。老美嘴上說我們卡在7nm，其實國內企業早就玩起了彎道超車。

ASML錯估了自己的重要性，光刻機這種產品，面對的是B端市場，全球來來回回就那幾個客戶，本身就應該堅持客戶至上，因為一旦客戶不買了，你手頭的機器就很麻煩，結果ASML把這種昂貴的機器，不對最大的市場出售，結果如今現有最大客戶臺積電不買了，ASML很快就會意識到，自己的做法跟對著其自身捅刀子沒區別。

英偉達現在的境況就是ASML未來要面對的，英偉達過去因為美國的禁令，從H20、H100、H200全部禁售，但現在H200松綁4個月了，在中國市場一塊都沒賣出去，不是H200不夠好，而是中國國產替代在崛起，不需要了。雖然黃仁勛試圖通過各種方式游說，甚至下令大量備貨，準備好產能，但訂單量依舊是冷冰冰的“零”。

我們幾乎可以預見，中方從光刻機到芯片生產完全自主之后，市場份額不斷擴大，ASML原有客戶的市場蛋糕不斷縮小，ASML的光刻機的客戶需求也會不斷萎縮，回過頭來想起中國市場，但中國市場或也已經不需要了。這個結局，可能早已經寫好，在未來的某一天終究會發生。