每年光維護費就達2000萬元,它不是用來造芯片,而是為了驗證一款國產材料的性能——光刻膠。
這是國內第一條、也是目前唯一一條高端浸沒式光刻膠量產線,藏在小龍蝦之鄉的它,牽動著芯片制造的核心命脈。
![]()
光刻膠是芯片制造的“魔法藥水”,涂在硅片上經特定波長光線照射后,被照射部分發生化學反應,精準將電路轉移到硅片上。
它分為三大類:PCB光刻膠、顯示面板光刻膠和半導體光刻膠。
前兩類早已實現國產化,門檻相對較低;半導體光刻膠技術含量最高,按照射波長又分為G線、I線、KrF、ArF、ArFi和EUV光刻膠,波長越小,制造要求越高。
![]()
國內目前能買到的DUV光刻機,對應的核心光刻膠是KrF、ArF和ArF浸沒式三種。
其中KrF和ArF屬于干式光刻膠,極限制程在130納米和65納米左右;ArF浸沒式光刻膠配合DUV多重曝光工藝,最高可支持7納米制程,是當前國內最先進的光刻膠,也是鼎龍這條產線的核心產品。
![]()
光刻膠的生產難度遠超想象。
這座工廠采用半導體fab級潔凈標準,進入車間需經過層層更衣、消毒、分離流程。車間里的黃色燈光不是為了營造氛圍,而是為了過濾藍紫光線,防止光刻膠提前觸發化學反應。
生產光刻膠的原材料包括樹脂、光引發劑、溶劑、單體等,多數需要自主設計合成,還要在極致潔凈環境中完成純化、混配、過濾、檢測等環節,最后灌裝入瓶。
出廠前,還得通過DUV光刻機的真實光刻流程驗證:先在涂膠顯影機(價值數千萬)完成涂膠,再送入光刻機曝光,最后返回顯影,整套流程無誤才能放行。
![]()
研發國產光刻膠,要闖三道難關:一是原材料配套不足,多數材料需高度定制化;二是純度要求極端,金屬雜質含量必須低至十億分之一,鈉、鐵、銅等關鍵金屬顆粒更是要達到萬億分之一量級,任何疏忽都會導致整批報廢;三是下游客戶的信任壁壘,過去晶圓廠更傾向于成熟的海外產品,不愿冒風險試用國產材料。
![]()
長期以來,全球高端光刻膠市場被日本企業壟斷,東京應化、信越化學、富士膠片等占據80%以上份額。
2009年日本限制光刻膠對韓出口,直接導致韓國半導體產業癱瘓,三星、SK海力士被迫縮產,直到尹錫悅政府對日妥協才解除禁運。
貿易戰和科技戰讓國內晶圓廠意識到卡脖子風險,主動尋求國產配套,這給了鼎龍股份機會。
![]()
經過無數次碰壁、試錯、改進,2025年鼎龍建成國內唯一的ArF浸沒式光刻膠量產線。
沒有逆襲神話,也沒有彎道超車,國產化突破的樸素邏輯就是:你設一關,我打通一關。
如今,鼎龍的光刻膠已走出潛江工廠,送往國內各大晶圓廠,參與制造先進制程芯片。
關于大家關心的國產光刻機調研,相關溝通已在推進,最快一年、最晚兩年,國產DUV光刻機的深度內容就會和大家見面。關注我,一起見證國產芯片產業鏈的每一步突破。
特別聲明:以上內容(如有圖片或視頻亦包括在內)為自媒體平臺“網易號”用戶上傳并發布,本平臺僅提供信息存儲服務。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.